International Standards and Conformity Assessment for all electrical, electronic and related technologies

SC 47F

Systèmes microélectromécaniques

 

Détail

Comité
Groupes de Travail
Chef de Projet

Statut

Courant

Frcst Pub

Date

Date

Stabilité

SC 47F01Sekwang PARK/Joon-Shik PARKPPUB2011-072016

Historique

Stage
Document
Downloads
Date de Décision
Date Cible
PNW
47/1907/NP pdf file 272 kB
2007-03-30 
ANW
47/1932/RVN pdf file 149 kB
47/1932A/RVN pdf file 193 kB
2007-09-282007-08-15
1CD
47/1947/CD pdf file 585 kB
2007-11-302007-12-31
CDM
47/1970/CC pdf file 212 kB
2008-04-252008-03-31
A2CD
47F/7/CC pdf file 320 kB
47F/7A/CC pdf file 344 kB
2008-09-122008-07-31
2CD
47F/10/CD pdf file 1446 kB
2008-11-282008-10-31
ACDV
47F/26/CC pdf file 391 kB
2009-07-102009-04-30
CCDV
47F/31/CDV pdf file 1118 kB
pdf file 1225 kB
47F/31F/CDV pdf file 1225 kB
2009-09-042009-07-31
CCDV
47F/31/CDV pdf file 1118 kB
pdf file 1225 kB
47F/31F/CDV pdf file 1225 kB
2009-09-182009-07-31
ADIS
47F/66/RVC doc file 181 kB
pdf file 288 kB
2010-08-272010-05-15
DEC
2011-03-112010-11-30
RDIS
2011-03-172011-03-31
CDIS
47F/82/FDIS

2011-04-222011-06-15
APUB
47F/92/RVD pdf file 47 kB
2011-06-292011-06-30
BPUB
2011-06-302011-07-15
PPUB
2011-07-132011-08-15

Projet

IEC 62047-9 Ed. 1.0

Dispositifs à semiconducteurs - Dispositif microélectromécaniques - Partie 9: Mesure de la résistance de collage de deux plaquettes pour les MEMS

 

Remarque:

- Targets: CDV: 2008-09 FDIS: 2009-09 cc: 49, 56, 91, 101 - Transferred from TC 47/WG 4