International Standards and Conformity Assessment for all electrical, electronic and related technologies

SC 47F

Systèmes microélectromécaniques

 

Détail

Comité
Groupes de Travail
Chef de Projet

Statut

Courant

Frcst Pub
Date

Date

Stabilité

SC 47F01Sekwang PARK/Joon-Shik PARKPPUB2011-072015

Historique

Stage
Document
Downloads
Date de Décision
Date Cible
PNW
47/1907/NP  
2007-03-30 
ANW
47/1932/RVN  
47/1932A/RVN  
2007-09-282007-08-15
1CD
47/1947/CD  
2007-11-302007-12-31
CDM
47/1970/CC  
2008-04-252008-03-31
A2CD
47F/7/CC  
47F/7A/CC  
2008-09-122008-07-31
2CD
47F/10/CD  
2008-11-282008-10-31
ACDV
47F/26/CC  
2009-07-102009-04-30
CCDV
47F/31/CDV  
47F/31F/CDV  
2009-09-042009-07-31
CCDV
47F/31/CDV  
47F/31F/CDV  
2009-09-182009-07-31
ADIS
47F/66/RVC  
2010-08-272010-05-15
DEC
2011-03-112010-11-30
RDIS
2011-03-172011-03-31
CDIS
47F/82/FDIS  
2011-04-222011-06-15
APUB
47F/92/RVD  
2011-06-292011-06-30
BPUB
2011-06-302011-07-15
PPUB
2011-07-132011-08-15

Projet

IEC 62047-9 Ed. 1.0

Dispositifs à semiconducteurs - Dispositif microélectromécaniques - Partie 9: Mesure de la résistance de collage de deux plaquettes pour les MEMS

 

Remarque:

- Targets: CDV: 2008-09 FDIS: 2009-09 cc: 49, 56, 91, 101 - Transferred from TC 47/WG 4